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两者均涉及偏光片相关材料研发,技术难点均包含表面处理(如剥离力、表面阻抗)及材料可靠性。用户需求中提到的ITO层贴附可靠性问题与偏光片离型膜的表面特性优化存在技术关联,且均需应对高温环境下的材料稳定性。
偏光片离型膜、MLCC流延离型膜的研发需求
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两者均涉及液晶材料的高温环境处理需求。用户需求中的高温信赖性实验(90℃500h)与该需求中的氮气保护模块设计(控制氧气浓度)在材料耐温性及环境控制方面存在技术交叉,均需解决高温下材料性能稳定性问题。
基于气体组分及环境参量精确控制的液晶材料曝光技术
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两者均涉及光学薄膜材料的精密制备技术。用户需求中的VA补偿设计与该需求中的光学常数(n,k)解析存在光学性能优化的共性,但技术领域和具体应用场景差异较大。
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